PECVD Varkë grafite për PV

Varka PECVD (Varka e Depozitimit Kimik me Avull të Përmirësuar me Plazmë) është një pajisje kryesore që mbart procese të projektuara posaçërisht për industrinë fotovoltaike, e përdorur në fazën e depozitimit të filmit të hollë të prodhimit të qelizave diellore me efikasitet të lartë. Është bërë nga materiale me pastërti të lartë dhe rezistente ndaj temperaturave të larta dhe mund të funksionojë në mënyrë të qëndrueshme në mjedisin e ashpër të procesit PECVD, duke siguruar veshje uniforme filmi në pllaka silikoni dhe duke ndihmuar në përmirësimin e efikasitetit të konvertimit dhe besueshmërinë afatgjatë të qelizave. Ky produkt është i përshtatshëm për depozitimin e nitritit të silikonit (SiNx) ose filmave të tjerë funksionalë në qeliza fotovoltaike me efikasitet të lartë, siç janë pllakat e silikonit monokristalin/multicristalin, TOPCon dhe HJT, dhe është një material i domosdoshëm kyç i konsumueshëm në linjat e prodhimit masiv të qelizave fotovoltaike.

Parametrat teknike

Materiali: I bërë nga grafit izostatik (pastërti ≥ 99.99%), mund t'i rezistojë temperaturës së lartë të menjëhershme prej 1200°C dhe cikleve të shpeshta të ftohta dhe të nxehta në procesin PECVD. Koeficienti i zgjerimit termik është aq i ulët sa 4.5×10⁻⁶/°C, duke parandaluar çarjen dhe deformimin. Jetëgjatësia e shërbimit është rritur me më shumë se 30% krahasuar me materialet tradicionale.

Dizajni i Fushës Termike Super Uniforme

Përçueshmëria e lartë termike e grafitit (100-120 W/m·K) e kombinuar me një strukturë kanali të rrjedhës së ajrit në formë hoje bletësh mundëson përçueshmëri të shpejtë dhe uniforme të nxehtësisë brenda dhomës së reagimit. Diferenca e temperaturës midis pllakave të silikonit është ≤ ±2°C, dhe uniformiteti i trashësisë së filmit arrin ±2.5% (kryesues në industri).

Teknologjia e Trajtimit të Sipërfaqes me Ndotje të Ulët

Sipërfaqja trajtohet me një shtresë karbidi silici (SiC) me dendësi të lartë ose me një proces lustrimi super të lëmuar (Ra ≤ 0.2μm), i cili pengon derdhjen e pluhurit të grafitit dhe e mban shkallën e lëshimit të grimcave nën 5 grimca/cm², duke përmbushur kërkesat e pastërtisë së proceseve të prodhimit të qelizave fotovoltaike të nivelit të lartë.

Garanci antioksidimi dhe jetëgjatësie të gjatë shërbimi

Mund të zgjidhen veshje opsionale antioksiduese kompozite gradient (siç është struktura shumështresore Al₂O₃/SiC), të cilat përmirësojnë performancën antioksiduese me 5 herë në mjedise me temperaturë të lartë që përmbajnë oksigjen. Jeta e shërbimit tejkalon 1500 cikle, duke ulur ndjeshëm koston e prodhimit për vat.

Pse të zgjidhni varkën prej grafiti PECVD?

Përshtatja e procesit fotovoltaik: Zgjidhje të personalizuara të porozitetit dhe modifikimit të sipërfaqes për heqjen e veshjes së qelqit të silikonit fosforik (PSG) TOPCon, depozitimin e HJT në temperaturë të ulët dhe kërkesa të tjera të veçanta.

Efikasiteti i kostos: avantazhi natyror i kostos së materialeve grafit + jetëgjatësia e gjatë e shërbimit, kostoja e përgjithshme zvogëlohet me më shumë se 40% krahasuar me automjetet qeramike.

Verifikimi dhe besueshmëria globale: Produkti përdoret në linjën globale të prodhimit fotovoltaik me më shumë se 50GW, shkalla e dështimit < 0.1%.

Kutitë e varkave Semixlab PECVD:

Uniformiteti i veshjes: ±2.8% → ±2.1% (optimizuar 25%)

Frekuenca e zëvendësimit të trupit të anijes: 800 herë → 1300 herë (zgjerim 62.5%)

Temperatura e zbatueshme: ≤800°C

Pajtueshmëria me çipa silikoni: 125mm×125mm deri në 210mm×210mm (mbështetje për personalizim)

Jeta e shërbimit: ≥1000 herë (në varësi të kushteve specifike të procesit)

Vrazhdësia e sipërfaqes: Ra≤0.5μm (për të siguruar ndotje të ulët të grimcave)

Detajet e shpejta:

1. Emra të tjerë: varkë PECVD, varkë grafiti për procesin PECVD, varkë PECVD (varkë bartëse me depozitim kimik të avullit të përmirësuar me plazmë).

2. Zbatimi: industria fotovoltaike, e përdorur në fazën e depozitimit të filmit të hollë të prodhimit të qelizave diellore me efikasitet të lartë.

3. Parametrat kryesorë: Pastërtia ≥99.995%, dendësia 1.80-1.85g/cm³.

Skenarët tipikë të aplikimit

Depozitimi i filmit antireflektues të nitritit të silikonit me qelizë PERC me një kristal të vetëm.

Shtresa e oksidit të tunelimit të qelizës TOPCon dhe përgatitja e shtresës së silicit polikristalin.

Procesi i depozitimit të filmit amorf të silikonit në qelizën HJT.

Rezistencë e jashtëzakonshme ndaj temperaturave të larta: Duke përdorur grafit me pastërti të lartë ose materiale kompozite qeramike të personalizuara, mund t'i rezistojë temperaturave të larta të vazhdueshme deri në 800°C në procesin PECVD pa deformim ose ndotje, duke siguruar stabilitet afatgjatë.

Dizajn i saktë uniformiteti: Struktura e optimizuar e çarjeve dhe teknologjia e trajtimit sipërfaqësor garantojnë ngrohje uniforme të pllakave të silikonit gjatë procesit të depozitimit, me qëndrueshmëri të trashësisë së filmit brenda ±3%, duke rritur ndjeshëm efikasitetin dhe rendimentin e baterisë.

Ndotje e Ulët dhe Jetëgjatësi e Gjatë Shërbimi: Teknologjia speciale e veshjes sipërfaqësore pengon në mënyrë efektive ngjitjen e grimcave, duke zvogëluar rrezikun e ndotjes së procesit; rezistenca e fortë ndaj korrozionit siguron një jetëgjatësi shërbimi prej mbi 1000 ciklesh, duke ulur koston e përgjithshme për klientin.

Pajtueshmëria dhe fleksibiliteti: Mbështet madhësi të ndryshme të pllakave të silikonit (M6/M10/G12, etj.) dhe kërkesa të ndryshme procesi, duke ofruar hapësira të personalizuara të çarjeve dhe dizajne të strukturës së anijes, dhe është i pajtueshëm me pajisjet kryesore PECVD (si Centrotherm, Meyer Burger, etj.).