Grafit me tre petale

Pllaka e grafitit me tre petale e Semixlab është projektuar posaçërisht për sistemet e përparuara të rritjes së silikonit me një kristal Czochralski (CZ). Stabiliteti i saj i lartë termik, integriteti strukturor dhe pastërtia e materialit ndikojnë drejtpërdrejt në cilësinë e kristalit dhe rendimentin e prodhimit.

Në procesin CZ, silici polikristalin shkrihet në një enë kuarci në temperatura mbi 1420°C, ndërsa enën e grafitit përreth dhe përbërësit e zonës së nxehtë ofrojnë mbështetje mekanike dhe përcaktojnë mjedisin termik. Stabiliteti i strukturës së grafitit është thelbësor: ai kontrollon gradientët radialë dhe aksialë të temperaturës, ndikon në sjelljen e konvekcionit të shkrirjes dhe në fund të fundit përcakton formën e ndërfaqes së ngurtë-lëng gjatë rritjes së kristalit. Edhe shtrembërimet më të vogla strukturore ose deformimet e shkaktuara nga stresi mund të çojnë në luhatje në diametrin e kristalit, ndryshime në përqendrimin e oksigjenit dhe rritje të dendësisë së defekteve.

Ena prej grafiti me tre petale përdor një strukturë të segmentuar, duke e ndarë trupin e enës në tre seksione të përpunuara me precizion. Ky dizajn synon të zbusë streset termike periferike të gjeneruara gjatë funksionimit të zgjatur në temperaturë të lartë dhe ciklit termik të përsëritur. Ndryshe nga enët tradicionale monolitike prej grafiti, të cilat mund të grumbullojnë stres përgjatë të gjithë strukturës unazore, struktura me tre pjesë lejon zgjerim të kontrolluar dhe rishpërndarje të stresit në ndërfaqe specifike. Rezultati është stabilitet dimensional i përmirësuar, rrezik i zvogëluar i çarjeve dhe besueshmëri e shtuar afatgjatë në mjediset e furrës CZ.

Nga një perspektivë e inxhinierisë termike, mbajtja e një fushe të qëndrueshme dhe simetrike të temperaturës është thelbësore për kontrollin e modeleve të rrjedhës së shkrirjes dhe lakimit të ndërfaqeve të rritjes së kristalit. Grafiti me tre petale përmirëson ekuilibrin termik radial duke minimizuar deformimin dhe duke ruajtur qëndrueshmërinë gjeometrike gjatë gjithë ciklit të rritjes. Kjo kontribuon në kushte të qëndrueshme të tërheqjes së kristalit, kontroll më të saktë të diametrit dhe infiltrim më uniform të oksigjenit në shkrirjen e silikonit nga kuarci. Ky stabilitet termik është veçanërisht i rëndësishëm në prodhimin e lingotave me diametër të madh, të cilat zakonisht kanë gradiente më komplekse të temperaturës dhe ngarkesa mekanike dukshëm më të larta.

Pastërtia e materialit dhe dendësia strukturore janë po aq kritike për përbërësit e grafitit të gradës gjysmëpërçuese. Grafiti me tre petale prodhohet duke përdorur grafit të shtypur izostatikisht me dendësi të lartë, me kokërr të imët, me përmbajtje të kontrolluar rreptësisht të papastërtive për të zvogëluar rrezikun e kontaminimit të metaleve brenda zgavrës së rritjes së kristalit. Teknikat e përparuara të përpunimit sigurojnë toleranca të ngushta dimensionale dhe përshtatje të saktë midis segmenteve, duke ruajtur shtrirjen mekanike dhe duke minimizuar rrjedhjen e nxehtësisë në ndërfaqe. Në varësi të kërkesave specifike të mjedisit të procesit, Semixlab mund të integrojë gjithashtu veshje mbrojtëse sipërfaqësore (veshje SiC, veshje TAC, veshje pirolitike karboni) për të rritur rezistencën ndaj oksidimit dhe për të zgjatur jetëgjatësinë.

Grafiti me tre petale i Semixlab është një mbështetje e besueshme teknologjike për prodhimin modern të silikonit me një kristal të vetëm në Çeki. Ndërkohë, Semixlab është e përkushtuar të ofrojë teknologji kryesore dhe zgjidhje produktesh të personalizuara për proceset e rritjes së kristaleve gjysmëpërçuese. Ne mezi presim të bëhemi partneri juaj afatgjatë në Kinë.