Pllakë kuarci gjysmëpërçuese

Pllaka kuarci gjysmëpërçuese Semixlab është një substrat silici i shkrirë me pastërti ultra të lartë, i lëmuar me precizion, i projektuar për mjedise të përpunimit të gjysmëpërçuesve me kërkesa të larta.

Aplikohet gjerësisht si një pllakë artificiale, pllakë bartëse, substrat optik dhe bazë fotomaske në oksidimin termik, CVD/LPCVD, PECVD dhe sistemet e litografisë.

I projektuar nga 99.99% SiO₂ me pastërti të lartë, ky pllakë kuarci ofron stabilitet termik të jashtëzakonshëm, inerci kimike dhe transparencë optike, duke siguruar funksionim të qëndrueshëm dhe pa ndotje në linjat e përparuara të prodhimit të gjysmëpërçuesve.

Ⅰ. Vetitë e Materialit dhe Sipërfaqes

● Materiali: Silice e shkrirë sintetike ose natyrale (SiO₂ ≥ 99.99%).

● Opsionet e diametrit: 2", 4", 6", 8", 12" (madhësi të personalizuara në dispozicion).

● Përfundimi i Sipërfaqes: I lëmuar nga të dyja anët, sheshtësi ≤ 5 μm, vrazhdësi sipërfaqësore ≤ 0.5 nm.

● Rezistencë termike: E qëndrueshme deri në 1200°C funksionim i vazhdueshëm.

● Koeficienti i Zgjerimit Termik: 5.5 × 10⁻⁷ /°C.

● Transmetimi optik: >90% nga 190 nm në 2,600 nm.

Çdo pllakë metalike i nënshtrohet inspektimit të rreptë sipërfaqësor, verifikimit dimensional dhe analizës së pastërtisë për të siguruar përputhshmëri të plotë me kërkesat e gradës gjysmëpërçuese.

Ⅱ. Funksionet kryesore në proceset gjysmëpërçuese

1. Bartësi i procesit në sistemet CVD dhe LPCVD

Napolitanet e kuarcit përdoren si valë artificiale ose distancuese për të stabilizuar rrjedhën e gazit dhe uniformitetin e temperaturës gjatë depozitimit të filmit të hollë të SiO₂, Si₃N₄ dhe polisiliconit. Saktësia e tyre dimensionale siguron rritje uniforme të filmit dhe gjenerim minimal të grimcave gjatë gjithë cikleve të depozitimit.

2. Zbatimet në furrat e oksidimit dhe difuzionit

Në proceset e oksidimit në temperaturë të lartë dhe të difuzionit të dopantit, pllakat e kuarcit veprojnë si mburoja termike ose monitorues të procesit, duke ruajtur shpërndarje uniforme të temperaturës dhe duke parandaluar kontaminimin e pllakave të prodhimit.

3. Përdorimi i optikës dhe litografisë

Falë transmetimit të lartë optik dhe uniformitetit të indeksit të thyerjes, pllaka kuarci është ideale për prodhimin e fotomaskave, substrateve të ekspozimit DUV dhe mjeteve të kalibrimit optik. Ajo garanton transmetim të qëndrueshëm të dritës për sistemet e litografisë i-line, KrF dhe ArF.

4. Mjedise plazme dhe gdhendjeje

Në sistemet e gdhendjes së thatë dhe CVD me plazmë, pllakat e kuarcit përdoren si mburoja dhomash ose dritare plazme, duke ofruar forcë të shkëlqyer dielektrike dhe qëndrueshmëri kimike ndaj gazrave me bazë halogjeni (CF₄, SF₆, Cl₂).

5. Metrologjia dhe Kalibrimi i Pajisjeve

Napolitanat e kuarcit shërbejnë si napolitan referencë për kalibrimin e trashësisë së filmit, temperaturës dhe rrafshësisë. Sipërfaqja e tyre ultra e lëmuar dhe pa defekte mundëson rezultate matjeje të sakta dhe të përsëritshme, duke siguruar stabilitetin e kontrollit të procesit.

Aplikime tipike

● Pllakë artificiale për sistemet CVD, LPCVD dhe PECVD

● Mbajtës procesi ose mburojë termike në furrat e oksidimit dhe difuzionit

● Substrat fotomaske për litografi UV/DUV

● Pllakë referimi për kalibrimin e pajisjeve dhe metrologjinë

● Dritare e dhomës së plazmës dhe mbrojtëse e procesit të gdhendjes

Pllaka kuarci gjysmëpërçuese Semixlab është një substrat me performancë të lartë i projektuar për proceset gjysmëpërçuese më të kërkuara. Stabiliteti i tij termik, preciziteti optik dhe pastërtia kimike e bëjnë atë të domosdoshëm në aplikimet e depozitimit, oksidimit, litografisë dhe metrologjisë. Me mbështetje gjithëpërfshirëse të personalizimit dhe inxhinierisë, Semixlab ofron zgjidhje që maksimizojnë qëndrueshmërinë e procesit, besueshmërinë e rendimentit dhe efikasitetin operacional. Ne shpresojmë sinqerisht të bëhemi partneri juaj afatgjatë në Kinë.